記者從中國科學(xué)院高能物理研究所獲悉，近日，中國散裂中子源(CSNS)探測(cè)器團(tuán)隊(duì)利用自主研制的磁控濺射大面積鍍硼專用裝置，成功制備出滿足中子探測(cè)器需求的高性能大面積碳化硼薄膜樣品，實(shí)現(xiàn)了中子探測(cè)器關(guān)鍵技術(shù)和器件的國產(chǎn)化。

△高性能大面積碳化硼薄膜樣品

高性能大面積碳化硼薄膜單片面積達(dá)到1500mm×500mm，薄膜厚度1微米，全尺寸范圍內(nèi)厚度均勻性優(yōu)于±1.32%，是目前國際上用于中子探測(cè)的最大面積的碳化硼薄膜。

隨著中國散裂中子源(CSNS)二期工程即將啟動(dòng)，擬建的中子譜儀對(duì)大面積、高效率、位置靈敏的新型中子探測(cè)器需求緊迫。如何制備出高性能中子轉(zhuǎn)換碳化硼薄膜是其中最核心的技術(shù)，目前也只有美國、歐洲等少數(shù)幾個(gè)發(fā)達(dá)國家掌握了該項(xiàng)技術(shù)。

2016年在核探測(cè)與核電子學(xué)國家重點(diǎn)實(shí)驗(yàn)室的支持下，CSNS探測(cè)器團(tuán)隊(duì)與同濟(jì)大學(xué)朱京濤教授合作，開始研制一臺(tái)磁控濺射大面積鍍硼專用裝置，鍍膜厚度范圍為0.01~5微米，同時(shí)支持單、雙面鍍膜，支持射頻和直流鍍膜。2021年6月，該裝置通過了重點(diǎn)實(shí)驗(yàn)室驗(yàn)收并投入使用。

△自主研制的磁控濺射大面積鍍硼專用裝置

經(jīng)過多年的技術(shù)攻關(guān)和工藝試制，團(tuán)隊(duì)攻克了濺射靶材制作、過渡層選擇、基材表面處理等對(duì)鍍膜質(zhì)量影響大的關(guān)鍵技術(shù)，利用該裝置制備了多種規(guī)格的碳化硼薄膜，并成功應(yīng)用于CSNS多臺(tái)中子譜儀上的陶瓷GEM中子探測(cè)器，實(shí)現(xiàn)了中子探測(cè)器關(guān)鍵技術(shù)和器件的國產(chǎn)化，為接下來研制更大面積的高性能新型中子探測(cè)器提供了強(qiáng)有力的技術(shù)支撐。