美國明尼蘇達大學雙城科學與工程學院的研究人員發明了一種更便宜、更安全、更簡單的技術，可以將一組“頑固”的金屬（包括鉑、銥、釕和鎢等元素）和金屬氧化物制成薄膜，用于許多電子產品、計算機組件和其他應用程序。該研究發表在美國國家科學院院刊 (PNAS) 上。
通常，科學家使用濺射和電子束蒸發等技術合成這些金屬薄膜。后者包括在高溫下熔化和蒸發金屬，并允許在晶片頂部形成薄膜。但這種傳統方法非常昂貴，耗能大，且由于使用的電壓高，也可能不安全。現在，明尼蘇達大學的研究人員已經開發出一種方法，可以在更低的溫度下蒸發這些金屬，溫度低于200℃。通過設計有機配體（碳、氫和氧原子的組合）并將其添加到金屬中，研究人員能夠顯著提高材料的蒸氣壓，使其更容易在較低溫度下蒸發。他們的新技術不僅更簡單，而且還制造了易于擴展的更高質量的材料。
